반도체 생산 공정에서 진공펌프가 쓰이는 공정?
진공펌프는 거의 모든 공정에서 이용됩니다.
대표적으로 oxidation, etching 공정이 있습니다.
공정의 한예를 들어고 진공펌프를 사용자가 어떻게 사용하지?
oxdidation의 경우 현재 반도체는 대량 생산을 하기때문에 LPCVD(low pressure chemical vapor deposition) 이라는 방식으로 산화막을 형성합니다.
이방식을 이용하면 산화막 형성시 웨이퍼를 세로로 세워 산화막을 형성할수 있으므로 많은양의 웨이퍼에 동시에 산화막을 성장 시킬수 있습니다.
사용자가 사용을 한다기보다는 oxidation 장비와 진공펌프가 거의 한몸으로 동작합니다.
이외에 PECVD(Plasma Enhanced CVD)의 공정같은경우는 SOI 반도체를 만드는데 많이 이용하는 방법입니다.
플라즈마를 이용해야 하므로 진공은 기본 조건이 됩니다.
다른 플라즈마를 이용하는 공정방식으로는 HDPCVD(High Density Plasma CVD) 가 있습니다.물리적방법으로 산화막을 증착시키는 방법인 PVD(Physical Vapor Deposition)또한 진공은 기본 조건입니다.
Etching의 경우도 플라즈마를 이용하는 경우가 많기때문에 진공이 필수조건이 됩니다.
작은 건식진공펌프는 어디다 두고 사용하나요?저도 작은 건식진공펌프에 대해서는 들어본적이 없는데요.
제생각에는 작다고 해서 이동이 가능한 형태는 아닐듯합니다.
거의 반도체 공장은 라인별로 돌아가기때문에 장비를 이동시키거나 하는 일이 거의 없다고 합니다.
건식 진공펌프는 플라즈마관련 공정에서 모두 이용됩니다.